삼성전자, ASML과 차세대 반도체 제조 전략적 협력 확대
요약
삼성전자가 ASML과 차세대 반도체 제조를 위한 전략적 협력을 확대한다고 밝혔다. 삼성전자는 하이 NA EUV용 12인치 포토마스크 플랫폼을 위한 업계 이니셔티브에 합류했으며, 업계 최초로 향후 D램 생산에 하이 NA EUV 장비를 도입할 계획을 통해 리더십을 강화한다.
큐레이터 노트
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업계 최초 도입과 '리더십 강화'는 삼성전자 측 발표 문구로, ASML의 하이 NA EUV 장비가 실제 양산 라인에 투입되는 시점과 수율 검증 결과는 아직 확인되지 않았다.
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도입 효과·생산성 수치는 원문에 적힌 주장을 그대로 옮겼습니다. 스마트팩토리 기사는 공급사 보도자료가 많으므로 검증된 성과와 구분해 읽으세요.
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