삼성전자, 2028년 고(High) NA EUV D램 도입 추진…ASML과 차세대 반도체 제조 협력 확대
요약
삼성전자가 ASML과 차세대 노광 기술 및 포토마스크 분야 협력을 확대하며, ASML이 주도하는 '대형 마스크 컨소시엄'에 참여한다고 밝혔다. 이 컨소시엄은 현재 사용되는 6인치 포토마스크에서 차세대 12인치 포토마스크로의 전환을 논의하며, 삼성전자는 2028년 업계 최초로 첨단 D램 제조에 고(High) NA EUV 노광 장비 도입을 추진할 방침이다.
큐레이터 노트
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12인치 포토마스크 전환은 컨소시엄 논의 단계이며, 고NA EUV 도입도 2028년 목표치로 아직 실현 시점이 아니다.
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