한미일, 반도체 공정으로 촉매 제조 성공…에틸렌 수율 29배 개선

한국에너지기술연구원 연구팀이 미국 브룩헤이븐국립연구소, 서울대학교, 일본 국립재료과학연구소와 공동으로 반도체 공정인 화학기상증착(CVD)을 활용해 촉매 원자의 위치와 주변 구조까지 정밀 제어하는 기술을 개발했다. 망간 촉매 표면에 텅스텐 원자를 선택적으로 입힌 뒤 메탄을 에틸렌으로 전환하는 실험을 진행한 결과 기존 액상법 대비 촉매 활용률, 메탄 전환율, 에틸렌 수율이 모두 크게 향상됐고 800도 고온에서 180시간 운전해도 안정적인 성능을 유지했다.